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          首頁 > 期刊 > 光譜學(xué)與光譜分析 > 第21屆全國分子光譜學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議暨2020年光譜年會(huì)(第一輪通知) 【正文】

          第21屆全國分子光譜學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議暨2020年光譜年會(huì)(第一輪通知)

          作者: 第21屆全國分子光譜學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議暨2020年光譜年會(huì)組委會(huì)

          摘要:由中國光學(xué)學(xué)會(huì)和中國化學(xué)會(huì)主辦的“第21屆全國分子光譜學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議”暨由中國光學(xué)學(xué)會(huì)光譜專業(yè)委員會(huì)主辦的“2020年光譜年會(huì)”將于2020年5月15—18日在成都召開,會(huì)議由四川大學(xué)分析測試中心承辦。本次大會(huì)將秉承前20屆分子光譜學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議之宗旨,以期形成自由研討的學(xué)術(shù)氛圍,讓思想撞擊出火花,使創(chuàng)造力泉涌。

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          光譜學(xué)與光譜分析雜志

          光譜學(xué)與光譜分析雜志, 月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:原創(chuàng)性論文、研究簡報(bào)、動(dòng)態(tài)進(jìn)展、綜合評述、新技術(shù)、新儀器、邊緣學(xué)科介紹、新書評介等。于1981年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。

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