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          首頁 > 期刊 > 清洗世界 > 單晶圓擦洗技術(shù)及優(yōu)化方案的研究 【正文】

          單晶圓擦洗技術(shù)及優(yōu)化方案的研究

          作者:王文麗; 黃鑫亮; 夏楠君; 祝福生; 趙寶君; 王勇威 中國電子科技集團公司第四十五研究所; 北京101601

          摘要:本文基于單晶圓擦洗的原理,分析了單晶圓擦洗常見的兩種方案的缺點,提出了適合單晶圓擦洗的優(yōu)化方案。

          注:因版權(quán)方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社。

          清洗世界雜志

          清洗世界雜志, 月刊,本刊重視學術(shù)導向,堅持科學性、學術(shù)性、先進性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:實用技術(shù)、試驗研究、專論與綜述、環(huán)保節(jié)能、管理與維護等。于1985年經(jīng)新聞總署批準的正規(guī)刊物。

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